từ khóa: # Công nghệ quang khắc EUV

Công ty công nghệ ASML vừa công bố một bước đột phá quan trọng trong công nghệ quang khắc cực tím (EUV). Với hệ thống ánh sáng 1.000 watt hoàn toàn mới, cỗ máy này có khả năng bắn ba tia laser vào 100.000 giọt thiếc mỗi giây. Cải tiến này không chỉ giúp tăng tốc độ sản xuất chip lên 50% vào năm 2030 mà còn hứa hẹn giảm đáng kể chi phí sản xuất, mở ra một kỷ nguyên mới cho toàn bộ ngành công nghiệp bán dẫn.